一、化学镀镍工艺介绍

 最近几年，我国光亮镀镍工艺、化学镀镍工艺的开发和应用迅猛发展，是电镀行业的热门话题。其中重要的原因是我国制造业飞速发展，推动电镀行业化学镀镍工艺的发展。化学镀镍工艺在不断更新和进步，但与此同时，产生的废水也越来越难处理，给环境带来了严重污染。其中化学镀镍工艺会产生含次磷废水，更是电镀废水处理的难题。

 化学镀镍工艺通常是在高温(70～90C)下进行操作，镍的沉积速度较快，但是工艺控制困难，低温化学镀镍与高温化学镀镍的基础镀液大致相同，但由于温度的降低，根据Arrhenius方程，镍的沉积速度将大为降低，因此，低温化学镀镍须在碱性条件下进行，这是低温化学镀镍的一个特点，目前，使用高温酸性化学镀镍工艺较多，因此多数电镀液多呈现弱酸性，相应的产生的化学镀镍废水也多为弱酸性。

 这种镀镍溶液中的主要成分如下：

 镍盐：提供电镀层所需金属离子。

 还原剂：还原金属离子。目前多以采用次磷酸钠为还原剂的化学镀镍工艺应用最为普遍。但产生的电镀废水中会含有次磷废水

 络合剂：保持镀液稳定，能与镀液中的镍离子形成络合物，控制可供反应的游离镍浓度，抑制亚磷酸镍的沉淀。常用的络合剂一般含有羟基、羧基或氨基，如醋酸、丁二酸、羟基乙酸、乙二胺等。
       由于化学镀镍工艺中使用了次亚磷酸盐作为还原剂，因此化学镀镍废水中会产生大量的含次磷废水，此废水难以处理，必须使用湛清自主研发的次亚磷去除剂。

 二、化学镀镍含次磷废水处理

 根据次磷酸根的特性，次磷酸盐的溶解度都较高，正常条件下，次磷酸很难与重金属直接沉淀，而通过氧化技术的原理把次磷酸根氧化为正磷酸根的思路同样无法使用，因为芬顿氧化效率有限，只能氧化一部分次磷酸根，废水中仍然含有大量的次磷酸根离子无法去除。

 湛清环保的次亚磷去除剂HMC-P3是一种多相无机复合盐，专门针对电镀废水中的次亚磷，采用均相共沉淀技术，次亚磷去除剂能够直接与之结合形成沉淀，通过混凝絮凝，把次亚磷去除达标。

 三、化学镀镍含次磷废水处理工艺

 具体流程如下：

 1、取电镀化学镍次亚磷废水

 2、调节废水pH，加入次亚磷去除剂以及催化剂进行反应

 3、调节废水pH，加入次亚磷絮凝剂进行絮凝反应

 4、过滤沉淀出水，测定磷含量

 根据以上步骤，结合使用湛清环保研发的药剂——次亚磷去除剂P3，能将化学镀镍含次磷废水处理达标，其中总磷能处理到0.5mg/L以下。